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JBX-3200MV电子束光刻系统

参考报价: 面议 型号: JBX-3200MV
品牌: 日本电子 产地: 日本
关注度: 1222 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
价格范围30万-50万
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?
  • JBX-3200MV 电子束光刻系统

  • JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。

产品特点:

  • JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。

  • zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统

  • 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。


产品规格:

拼接精度≦±3.5 nm

套刻精度≦±5 nm

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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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