隙 半导体
仪器简介： 光致荧光光谱测量是半导体材料特性表征的一个被普遍认可的重要测量手段。MiniPL为模块化设计、计算机自动控制的高灵敏度、宽带隙小型PL（光致荧光）光谱仪；MiniPL采用Photon Systems公司自行研发的深紫外激光......
卓立汉光宽带隙小型深紫外PL-Mapping（光致发光）光谱仪 应用于科研领域仪器简介： 光致荧光光谱测量是半导体材料特性表征的一个被普遍认可的重要测量手段。MiniPL为模块化设计、计算机自动控制的高灵敏度、宽带隙小型PL（光致荧光）......
卓立汉光宽带隙小型深紫外PL-Mapping（光致发光）光谱仪 应用于半导体LED产业中的品质检测 仪器简介： 光致荧光光谱测量是半导体材料特性表征的一个被普遍认可的重要测量手段。MiniPL为模块化设计、计算机自动控制的高......
BSD-PM高性能比表面积及孔径\隙度分析仪属于研究级仪器，可测试材料的比表面积、总孔容、孔径分布和吸附脱附数据，尤其可对微孔材料的孔径分布给出更准确测试结果，适用于对研发、实验要求极高的科研单位和企业用户。 比表面积及孔径\隙度分析仪产品特点： 全程自动化智能化运行，无需人工值守，亲和的真人语音操作提示； BEST多路歧管模块......
测试原理 / Test Principle在低温（如：液氮浴，77.3K）条件下，向样品管内通入一定量的吸附质气体（如：N2），通过控制样品管中的平衡压力直接测得吸附分压，通过气体状态方程(PV=nRT)得到该分压点的吸附量；通过逐渐投入吸附质气体增大吸附平衡压力，得到吸附等温线；通过逐渐抽出吸附质气体降低吸附平衡压力，得到脱附等温线；相......
测试原理 / Test Principle在低温（如：液氮浴，77.3K）条件下，向样品管内通入一定量的吸附质气体（如：N2），通过控制样品管中的平衡压力直接测得吸附分压，通过气体状态方程(PV=nRT)得到该分压点的吸附量；通过逐渐投入吸附质气体增大吸附平衡压力，得到吸附等温线；通过逐渐抽出吸附质气体降低吸附平衡压力，得到脱附等温线；相......
测试原理 / Test Principle在低温（如：液氮浴，77.3K）条件下，向样品管内通入一定量的吸附质气体（如：N2），通过控制样品管中的平衡压力直接测得吸附分压，通过气体状态方程(PV=nRT)得到该分压点的吸附量；通过逐渐投入吸附质气体增大吸附平衡压力，得到吸附等温线；通过逐渐抽出吸附质气体降低吸附平衡压力，得到脱附等温线；相......
测试原理 / Test Principle在低温（如：液氮浴，77.3K）条件下，向样品管内通入一定量的吸附质气体（如：N2），通过控制样品管中的平衡压力直接测得吸附分压，通过气体状态方程(PV=nRT)得到该分压点的吸附量；通过逐渐投入吸附质气体增大吸附平衡压力，得到吸附等温线；通过逐渐抽出吸附质气体降低吸附平衡压力，得到脱附等温线；相......
Acktar 涂黑气隙宽带低反射率镀膜从EUV 到 SWIR 吸光度 99%缝隙尺寸低至 25μm x 3mm备有未封装和已封装版通用规格外径 (mm):9.53 ±0.1构造 :Stainless Steel涂层:Magic Black™缝隙长度 (mm):3.0厚度 (mm):0.02 nominal吸收率:99Acktar 涂黑气隙......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，......