半导体 测试 设备
产品概述 说明：此系统是卓立汉光推出的针对半导体晶圆进行微操作、检验的通用开发平台。系统中包括：半导体晶圆装夹单元、半导体晶圆对位单元、机器视觉单元和微操作机械手单元，配套有完整的运动控制系统和机器视觉软件。可以根据客户不同的需求，实现对半导体晶圆进行装夹、对位、转印、清洁、检验等功能。半导体晶圆微操作、检验设备特点：系统包含完整的装夹和对位结构，......
设备概览基于拉曼光谱法的半导体参数测试仪，具有非接触、无损检测、特异性高的优点。可以对半导体材料进行微区分析，空间分辨率＜ 800nm （典型值），也可以对样品进行扫描从而对整个面进行均匀性分析。设备具有智能化的软件，可对数据进行拟合计算，直接将载流子浓度、晶化率、应力大小或者分布等结果直观的展现给用户。系统稳定，重复性好，可用于实验室检验或者产线监......
特长 Features· 膜厚测量中必要的功能集中于头部· 通过显微分光高精度测量绝对反射率（多层膜厚、光学常数）· 1点只需不到1秒的高速tact· 实现了显微下广测量波长范围的光学系（紫外～近红外）· 通过区域传感器控制的安全构造· 搭载可私人定制测量顺序的强大功能· 即便是没有经验的......
在饮用水生产中应用的紫外杀菌装置由低压汞灯、壳体、电气装置组成。通电后可产生波长为254nm的紫外线。这种波长的紫外线辐射能量应占灯管总辐射能量的80%以上。紫外线灯管外套有石英管，要求能耐高温，对254nm的紫外线通过率为90%以上。紫外线灯管的壳体常用不锈钢材料制成。壳体内壁要求有很高的光洁度，对紫外线的反射率至少达85%以上。 水在通过装有紫外灯管的壳......
Wafer XRD用于全自动晶圆拣选、生产和质量控制特点适用于3到8寸晶圆。也可根据要求提供其他尺寸FOUP、载具或单个晶圆台跨槽晶圆识别为可选功能易于集成到任何工艺生产线中测量速度：每个样品＜10秒典型标准偏差（倾斜度）：例如Si 100＜0.003°MES和SECS/GEM接口铜靶微焦点风冷X射线光管（**30W）或细焦点水冷X射线光管（**1.5kW）......
中图仪器WD4000半导体晶圆几何形貌量测设备通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI......
中图仪器WD4000半导体晶圆wafer厚度测量设备通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。WD4000半导体晶圆wafer厚度测量设备采用高精度光谱共焦传感技术、光干涉双向扫描技术，完成非接触式扫描并建立3D Mapping图，实现晶圆厚度、TTV、L......
中图仪器WD4000半导体晶圆几何形貌量测设备兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量WD4000半导体晶圆几何形貌量测设备集成厚度测量......
中图仪器WD4000系列半导体晶圆表面形貌量测设备通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。WD4000系列半导体晶圆表面形貌量测设备自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TT......