化学 镀 镀
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热式那样与坩埚发生反应。*可能需要使用坩埚内衬。能迅速控制输出，因而能精确地控制膜厚。与溅射法及 ......
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
规格和选项射频-12010射频-12020射频-12030射频-12040最大功率输出输出连接器输入电压输入电流振荡方式振荡频率输出稳定性脉动谐波失真冷却方式外部尺寸（毫米）宽度深度高度重量（公斤）750瓦1.5千瓦3千瓦6千瓦N型LS2交流 200V ±10V，三相，50/60 Hz交流 5A交流 8A交流 20A交流 35A其他激发晶体振荡13.56兆赫......
产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。电子束能大范围地快速扫描，通过专用の控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控......
产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。电子束能大范围地快速扫描，通过专用的控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控制熔......
X射线荧光光谱跟样品的化学结合状态无关，而且跟固体、粉末、液体及晶质、非晶质等物质的状态也基本上没有关系。（气体密封在容器内也可分析）但是在高分辨率的精密测定中却可看到有波长变化等现象。特别是在超软X射线范围内，这种效应更为显著。波长变化用于化学位的测定 。仪器介绍 EDX Port......
硅材料CCD 相机的长波截止波长为1100nm （对于较强的光可响应至1300nm）。通过在芯片表面镀上转换磷光材料，能够探测光通讯广泛使用的1550nm 左右激光。主要特点反斯托克斯磷层吸收1440-1605nm 近红外光，进而产生的可见光在硅基芯片上进行成像。主要应用领域光通讯，OPO 激光等。 相机型号 ......
电镀液的质量会影响镀层的特性和达到所需厚度的电镀时间，电镀过程会改变电镀液的成分、杂质水平，因此定期检测镀液的化学成分对于确保成分正确至关重要，也可助于确保电镀槽本身不会被电镀液腐蚀。PeDX COAT便携式镀层分析仪专为电镀液检测而设计，无需电镀液无需消解或稀释，可直接用于测量多层镀层厚度测量及材料分析，也可用来定量和定性分析样品的元素组成，广泛应用于医疗......
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 用于测定玻璃和预蒸镀基底，符合行业标准0。适用光学常数项目。 技术参数： * 光谱范围: 190-885 nm（可扩展至2100nm） * 微光斑可选50µm-100µm-1mm ......