牛津Oxford原子层刻蚀机 PlasmaPro 100 ALE As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices there is a need for ever more precise process control to cr......
牛津Oxford深硅刻蚀机PlasmaPro 100 Estrelas PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工......
牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。。多模式功能。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成。单晶圆传送模式或集群式晶圆操作。双束流......
牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量......
牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术, PlasmalabSystem1......
牛津ICP等离子沉积机PlasmaPro 80 ICPCVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现......
参考成交价格: 暂无
型号:
基本信息产品名称:Oxford Bio patent anti-Matriptase (anti-Matriptase)规格或纯度:无载体, 重组, ExactAb™, 低内毒素, 无叠氮钠, 已验证, 无动物源, ≥95%(SDS-PAGE&SEC-HPLC), 见COA应用:Flow Cytometry, ELISA, Functional Assay,......
Oxford Bio patent anti-Matriptase (anti-Matriptase) Carrier Free, Recombinant, Low Endotoxin, Azide Free, Validated, Animal Free, ≥95%(SDS-PAGE&a......
Oxford Brookes U. patent anti-Activin Beta-B (anti-INHBB) Carrier Free, Recombinant, Low Endotoxin, Azide Free, Validated, Animal Free, ≥95%(SDS-......
产品介绍:Phenix FL 是 Phenix 的定制版本,专为需要前部进样(front-loading)的研究而量身打造。该设计侧重于在低至 40 K 的温度下实现样品的快速更换,从而无需对系统进行升温与重新降温。这对于要求快速周转的实验室,以及对氧气和水分敏感的样品而言,具有极大的优势。产品特点:可前部进样。实现样品的快速更换。产品优势:温度范围:40-......