牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

。多模式功能
。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成
。单晶圆传送模式或集群式晶圆操作
。双束流配置
。更低的表面薄膜粗糙度
。更佳的批次均匀性和工艺重复性
。准确终点监测 —— SIMS，发射光

产品特点:

· 质量薄膜高 ——超低污染

· 产量高，紧凑的系统体积设计 ——运行成本低

· 已获得专利的高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制

· 配置灵活 ——适于先进的研究应用

· 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式

应用:

· 磁阻式随机存取存储器（MRAM）

· 介电薄膜

· III-V族光电子材料刻蚀

· 自旋电子学

· 金属电极和轨道

· 超导体

· 激光端面镀膜

· 高反射（HR）膜

· 防反射（AR）膜

· 环形激光陀螺反射镜

· X射线光学系统

· 红外（IR）传感器

· II-VI族材料

· 通信滤波器

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途