准分子激光掩膜投影系统
Sepaths UP 全自动柱-膜通用固相萃取仪，可以同时自动完成 1-12 个相同或者不同样品的固相萃取操作，尤其可短时间完成大体积水样的应急处理，广泛应用于饮用水、地表水、地下水、废水、等液体样品中痕量有机物的萃取和富集。整套系统作，处理样品量大，自动化程度高；整套系统全密封设计，操作简便，安全环保。Sepaths UP 全自动柱-膜通用固相萃取系统支持......
小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需......
• 处理量20-10,000L以上• 滤膜面积：0.92-52m2• 可与其他生产设备相连接• 可装备三种长度滤柱的可滑动支架• 可选PLC数据采集单元......
Quantum Design小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3可用于测定MoS2、Cr2S3，适用于无掩膜光刻直写项目。并且参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。可应用于电子/半导体行......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系统&nbs......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 Microwriter ML3......
准分子激光器：CLS 5000 准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（PLD），光纤光栅刻写，LASIK，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。CLS 5000技术参数:激光介质ArFKrFXeCl波长 (nm)......