plasma cleaning原理

BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。The plasma source in this product series is specialized for processes with a low temperature, such as plastic film or ......

BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。The plasma source in this series can be incorporate......

EVG 301  Single Wafer Cleaning SystemEVG 301  单晶圆清洗系统 研发型单晶圆清洗系统 EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站,该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。 EVG301具有手动加载和预对......

承载量:≤8x9/15mL ; 离心力 / 转速:≤1288xg / 3000rpmPlasma 22 是分离血浆血小板衍生物的理想离心机。Plasma 22 在组织再生领域,有着广泛应用,如:牙医外科手术,创伤治疗,糖尿病治疗,烧伤治疗等。该型离心机,根据操作者需要,可以在开放或封闭系统中使用。特点LCD 显示屏> 显示 rpm/RCF、时间>......

exoRNeasy Serum/Plasma Maxi Kit 试剂盒从血清或血浆样本中高效纯化囊泡RNA可处理大体积样本,可灵敏检测低丰度转录本1小时内即可完成囊泡RNA的分离采用离心柱纯化流程,能够平行处理多个样本可从血清或血浆中分离miRNA和mRNAexoRNeasy Serum/Plasma Maxi Kit采用亲和性膜离心柱,可从exosomes......

牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域,用来检测Optoelectronic Semiconductor,可完成Optoelectronic Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semico......

牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Semiconductor项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Semiconductor等样品。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 紧密的设计,......

牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上......

牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE用于测定Optoelectronic Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Optoelectronic Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device Manu......

在将样品插入电子显微镜之前,利用等离子清洗仪立即对其进行清洗,清除样品表面的污染物、并防止在成像和分析过程中发生积碳及污染。同时对电镜样品台/杆、光榆等各类电镜部件进行清洗,可保证电镜真空的洁净度,减少换样时间。主要性能特点:·可清洗样品及样品台/杆及各类电镜部件·污染严重样品也可在2min内完成清洗·清洗过程不改变样品的元素组成及结构·采用无油真空设计·采......