多功能离子刻蚀仪

Acchrom S6000 IC双流路带给您全新分离体验......

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Acchrom S3000 IC双流路带给您全新分离体验电致膜离子抑制器 华谱电致膜离子抑制器 ,先进的技术理念和优异的工艺设计,造就了更低的抑制背景;在线电解水产生抑制,可连续自再生,避免了传统化学抑制器以及柱抑制器需要配置酸或碱再生液的弊端。电致淋洗液发生器 华谱电致淋洗液发生器通过控制电流可精确控制淋洗液浓度,保证淋洗液浓度的稳定可......

电致膜离子抑制器 华谱电致膜离子抑制器 ,先进的技术理念和优异的工艺设计,造就了更低的抑制背景;在线电解水产生抑制,可连续自再生,避免了传统化学抑制器以及柱抑制器需要配置酸或碱再生液的弊端。电致淋洗液发生器 华谱电致淋洗液发生器通过控制电流可精确控制淋洗液浓度,保证淋洗液浓度的稳定可靠,同时内置杂质捕获器和高压脱气盒,保证更平稳的基线和更......

电致膜离子抑制器 华谱电致膜离子抑制器 ,先进的技术理念和优异的工艺设计,造就了更低的抑制背景;在线电解水产生抑制,可连续自再生,避免了传统化学抑制器以及柱抑制器需要配置酸或碱再生液的弊端。电致淋洗液发生器 华谱电致淋洗液发生器通过控制电流可精确控制淋洗液浓度,保证淋洗液浓度的稳定可靠,同时内置杂质捕获器和高压脱气盒,保证更平稳的基线和更......

      EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。EIS-200原理:利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。    &......

化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀InSb—刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀InGaAlP—刻蚀铝镓铟磷刻蚀InP—刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/......

仪器简介:在热轧机的出口处,我公司RM312多功能凸度仪能够快速和连续测量热轧板带的中心厚度,横截面厚度(凸度),板带宽度,温度,剖面外形,边缘降和板形. 从测量得来的连续的过程控制和质量保证数据能帮助自动化控制系统和操作员提高操作,在整个生产过程中提高质量.技术参数:扫描板带的横向分辨率 5mm,采样时间 5ms冠精度+/-0.13%,楔精度+/-0.15......

Leica EM RES102 多功能离子减薄仪产品规格下载性能与优点  适用于TEM,SEM以及LM的样品制备   独特的解决方案Leica EM RES102 是一款独特的离子束研磨设备,带有两个鞍形场离子源,离子束能量可调,以获得最佳离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM,SEM和LM样品制备功......