离子束刻蚀/沉积系统

      EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、沉积等。

EIS-200原理：

利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

EIS-200具有以下优点：

Ÿ   方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少

Ÿ   分辨率高

Ÿ   不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻

Ÿ   可控制蚀刻Taper角

Ÿ   可以设定多样的实验条件

Ÿ   NPD(纳米图案成膜单元)选项（如下图）

       主要功能

纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

离子束沉积

表面清洁

离子减薄

     技术能力

应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

Ÿ   SiO2 on Si substrate

Ÿ   Diamond Substrate（金刚石）

Ÿ   Quartz (Mask)

Ÿ   

Oriented PET film

离子束刻蚀/沉积系统信息由上海纳腾仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于离子束刻蚀/沉积系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途