2024-03-13 16:57:26, zpx 日本电子株式会社(JEOL)
上海新国际博览中心
T0馆 T0308
2024年3月20-22日
在SEMICON® China
了解JEOL最新的纳米分析
及半导体制造技术
TEM/SEM/FIB/EBL
01
展位信息
SEMICON China已成为中国首要的半导体行业盛事之一。2024年SEMICON将于3月20日-3月22日在上海新国际博览中心举行,JEOL展位号:T0308。
在本次展会上,JEOL将以Poster和视频展示纳米分析及半导体制造的相关产品。
02
JIB-PS500i 聚焦离子束双束显微镜
特点:
1)低电压下出色的成像能力(1nm@1kV)
2)100nA束流,快速制备TEM薄片
3)130mmXY行程及-40~93°双向倾转
4)Check&GoTM,无需切换硬件即可在STEM和SEM模式切换
5)TEM-LinkageTM,加工后直接转入JEOL透射电镜,不会有样品掉落风险
03
JEM-F200 场发射透射电镜
特点:
1)高分辨率冷场电子枪可选,配有Flash&GoTM快速Flash功能
2)SpecporterTM自动进样设
3)Pico-stageTM高精度样品台
4)Dual EDS 超高计数率双能谱配置
5)1900万高像素 一体化SightskyTM相机
6)GIF/CEFID 能量损失谱可选
04
JBX-8100FS 电子束曝光系统
特点:
1)可选200kV加速电压(G3版)
2)可选配光学显微镜,避免观察时电子束带来的样品损伤
3)样品定位精度可达0.15nm
4)样品尺寸:6英寸(可选12个样品连续进样)
5)扫描速度:125MHz
05
JSM-IT800 场发射扫描电镜
特点:
1)光电过渡ZeromagTM
2)UID/UED/SED探测器:捕捉高分辨二次电子/电位衬度图像
3)最大样品尺寸:200mm(D)
4)Airlock&DrawOut两种换样方式可选
5)500nA分析束流可选
6)Gather-XTM无窗型一体化能谱可选,轻松识别常见的重叠峰
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