2023-10-31 20:27:07, 孟璐 布鲁克X射线产品、电子显微镜分析仪器(Bruker AXS)
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XRR是一种方便、快速的分析单层或多层薄膜和表面的方法,是一种纳米尺度上的分析方法,同时可实现无损分析。例如,通过原子层沉积(ALD)技术沉积的薄膜可以用XRR表征薄膜的厚度、密度和界面的粗糙度,同样也适用于其他方法制备的薄膜,如通过分子层沉积(MLD)沉积的有机/无机超晶格。与光学椭偏法不同,该方法不需要预先了解薄膜的光学性质,也不需要假设薄膜的光学性质。然而,XRR不能提供有关材料晶体结构的信息,并且多层膜只能在有限的深度内表征。

▲Figure 1: Schematic view of X-ray reflection for cases when the incident angle is lower and higher than the critical angle, θc.

▲Figure 2: Simulated XRR profile for a single layer system. The critical angle (determined by film density) and Kiessig fringes (determined by layer thickness) are observed
▲Figure 3: FFT analysis in DIFFRAC.XRR of the W thin film
D6 PHASER及DIFFRAC.XRR是进行薄膜反射率分析的一对利器。
DIFFRAC.XRR应用动力学散射理论进行了精确的模拟。采用最小二乘法对样品模型参数(厚度、粗糙度、密度)进行优化,使XRR曲线与实测数据拟合。实验贡献,如仪器分辨率、背景被整合,以准确地描述测量。快速稳定的拟合算法确保了最佳的收敛性,并提供了可靠的结果。


▲Figure 5: Fitting
analysis of the W film data in DIFFRAC.XRR. The sample was constructed using
the materials database then regression was performed. Additional layers were
added to fit the density profile of the film

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