2026-02-05 10:44:37, 星河视域 星河视域(无锡)智能科技有限公司
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仪器设备介绍
产品简介
S-neox在半导体、光学器件、材料、超精密加工、航空航天等领域被广泛应用。能够观测产品材料的表面形貌和轮廓尺寸;能够实现产品结构的2D尺寸、3D尺寸测量;能够实现图像的自动拼接;
该设备具有高分辨率、大景深观察,纵向分辨率达0.01nm;能够进行表面粗糙度、台阶高度等微结构测量;
设备同时拥有白光干涉、相位差干涉、共聚焦、多焦面叠加等几种不同的测量功能技术,在使用中可以一键切换几种不同的测量模式,针对不同表面结构和不同精度要求的产品都能完成测量分析。
SHARE.1
Sensofar S neox + SensoPRO:
专为晶圆胶测量打造的黄金组合
晶圆胶的定义
晶圆胶作为一类用于晶圆处理的专用胶粘剂,在半导体制造过程中主要发挥临时固定、保护及辅助加工的功能。
在晶圆键合与先进封装领域,粘合层对固定芯片或晶圆具有关键作用。该胶层的厚度与均匀性,直接影响了粘合强度、对准精度以及封装整体的可靠性。
Sensofar光学轮廓仪测量优势
使用5倍镜头测量
晶圆胶的三维轮廓图。
由于胶水沉积的不一致会导致翘曲、空隙或分层,而影响最终包装的完整性。
使用Sensofar的S neox 3D光学轮廓仪以及SensoPRO晶圆胶和胶水高度插件,您不仅可以自动表征晶圆粘合剂的高度和宽度,确保一致的粘附性、最佳的机械稳定性和精确的质量控制,更能借助S neox实现高效测量——其快速的数据采集能力大幅提升检测效率,同时S neox 3D光学轮廓仪可保证斜面图像的清晰度与细节还原度,为胶水沉积的微观形貌分析提供可靠数据支持。
使用 Glue SensoPRO Plugins
插件分析。
应用分享
SHARE.2
助力MEMS三维形貌与缺陷检测
MEMS:异构集成的功能与应用
微机电系统(MEMS)是异构集成中的关键组件,可在单个封装内实现机械、光学和电子功能的无缝组合。
MEMS器件的制造涉及高精度的微结构,通常需要深反应离子蚀刻(DRIE)、薄膜沉积和晶片键合。
MEMS计量面临的主要挑战包括对台阶高度、薄膜厚度、表面粗糙度及结构变形等参数的精确测量,这些因素均会影响器件的性能与可靠性。
S neox 助力 MEMS 制造
使用20倍镜头
测量MEMS的三维轮廓图
使用50倍镜头
测量MEMS的三维轮廓图
Sensofar的S neox 3D光学轮廓仪基于干涉技术,可对MEMS器件表面复杂形貌结构、关键区域台阶高度、线条宽度及粗糙度等关键参数进行精确测量。
S neox通过确保每个组件的几何精度和表面质量,为异构集成的功能实现与可靠性提供了坚实保障。
应用分享
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