【实验分享】磁控溅射制备铜电极层

2026-01-15 15:07:52, 沈阳科晶 沈阳科晶自动化设备有限公司

涉及产品简介


     VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
    PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小，占用的空间少，可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等气体，适用于对易氧化的物品的清洗。


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