应用案例 | 精准调控ALD工艺，ATP5020P护航钙钛矿量子点产业化

钙钛矿量子点（CsPbBr₃）因其色纯度高、发光效率好，是下一代显示技术的核心材料。然而，其本征稳定性差，易受水、氧、光、热的影响，严重制约了商业化应用。

原子层沉积（ALD）技术

原子层沉积（ALD）技术通过表面自限制反应实现纳米级薄膜沉积，为钙钛矿量子点提供致密的无机保护层，是提升其环境稳定性的有效方案。

在产业化应用中，ALD技术可显著增强量子点色转换层在显示器件中的长期工作寿命，为Micro-LED、QLED等新一代显示技术的量产提供工艺基础。

沉积温度是影响ALD封装效果的关键参数。

温度过低会导致前驱体反应不充分，薄膜致密性不足；温度过高则会引起量子点晶格结构损伤，造成不可逆的性能衰减。因此，确定最佳沉积温度窗口对实现量子点器件的产业化至关重要。

研究案例

研究人员通过系统实验证实，75℃是实现CsPbBr₃量子点ALD封装的最佳工艺温度。在此条件下制备的样品在保持初始光电性能的同时，展现出优异的环境稳定性。

本研究采用奥谱天成ATP5020P光纤光谱仪进行PL光谱采集以及光学性能表征，为工艺优化提供关键数据支持：

ATP5020P光谱仪的关键技术支撑

精确的光学性能定量

ATP5020P具备高灵敏度和光谱分辨率，可准确测量量子点的光致发光谱和吸收谱，为评估不同ALD工艺对量子点本征光学性能的影响提供可靠依据。

稳定性测试的实时监测

在热循环、蓝光辐照、高温高湿等加速老化实验中，仪器的高信噪比和测量稳定性确保了长期测试数据的准确性，为评估封装效果提供连续、可靠的性能衰减曲线。

原位测试的系统集成

通过光纤连接方式与温控平台实现联用，支持变温条件下的原位PL光谱采集，为研究温度依赖的载流子复合机制提供技术保障。

产业化验证与应用前景

基于75℃ ALD工艺封装的CsPbBr₃量子点已成功应用于白光LED器件。测试结果显示，器件色域覆盖达到94.00% NTSC和86.20% Rec.2020标准，且在600小时持续工作后仍保持85%以上的初始色域值，显著优于未封装器件。

该成果证明了ALD封装技术在量子点显示领域的产业化可行性，为Micro-LED全彩显示提供了可靠的色彩转换方案，同时在高色域照明、可见光通信等领域展现出应用潜力。

参考文献

Zijun Yan, Fangshun Ye, Liyue Xu, Xiao Yang, Shouqiang Lai, Shuli Wang, Yue Lin, Guolong Chen, Yijun Lu, Hao-Chung Kuo, Zhong Chen, Tingzhu Wu, Optimum temperature of atomic layer deposition of alumina on CsPbBr3 quantum-dot for optical performance and environmental stability, Journal of Luminescence, Volume 261, 2023, 119905, ISSN 0022-2313, https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2023.119905.