磁控溅射源/靶枪

技术参数：
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度范围：150-400mm
真空腔体内端面直径：60-96
靶材直径： 1", 2" and 3"
靶材zei大厚度：4-6mm
冷却：水冷

特点：
100%超高真空（UHV）应用
独有的放射性沉积模式
在线Z轴驱动及倾斜
水冷时不会存在水汽
平衡靶和非平衡靶设计
高强度磁体应用于磁性材料

应用领域：
PVD沉积
金属涂层
纳米结构薄膜
多层镀层
反应溅射
射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射
硬质涂层

磁控溅射源/靶枪信息由科睿技术发展有限公司为您提供，如您想了解更多关于磁控溅射源/靶枪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。