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磁控溅射源/靶枪

参考报价: 面议 型号: CUSP(高性价比)
品牌: 暂无 产地: 暂无
关注度: 88 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?
技术参数:
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪
安装法兰口径:NW63CF,NW100CF
真空腔体内长度范围:150-400mm
真空腔体内端面直径:60-96
靶材直径: 1", 2" and 3"
靶材zei大厚度:4-6mm
冷却:水冷

特点:
100%超高真空(UHV)应用
独有的放射性沉积模式
在线Z轴驱动及倾斜
水冷时不会存在水汽
平衡靶和非平衡靶设计
高强度磁体应用于磁性材料

应用领域:
PVD沉积
金属涂层
纳米结构薄膜
多层镀层
反应溅射
射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射
硬质涂层



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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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