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EVG 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统
参考价：面议
品牌：EVG 产地：奥地利 型号：EVG 301 单晶圆清洗系统 样本：来电或留言获取样本
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参数
| 产地类别：进口 | 供应商性质：生产商 |
产品介绍
EVG 301 Single Wafer Cleaning System
EVG 301 单晶圆清洗系统
研发型单晶圆清洗系统
EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站，该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速，毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。
EVG301具有手动加载和预对准功能，是一种多功能的R＆D型系统，适用于灵活的清洁程序和300 mm的能力。
EVG301系统可与EVG的晶圆对准和键合系统结合使用，以消除晶圆键合之前的任何颗粒。旋转夹头可用于不同的晶圆和基板尺寸，从而可以轻松设置不同的工艺。
特征
使用1 MHz的超音速喷嘴或区域传感器（可选）进行高效清洁
单面清洁刷（选件）
用于晶圆清洗的稀释化学品
防止从背面到正面的交叉污染
完全由软件控制的清洁过程
选件
带有红外检查的预粘接台
非SEMI标准基材的工具
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）200、100-300毫米
清洁系统：开室，旋转器和清洁臂
腔室：由PP或PFA制成（可选）
咨询：182 6326 2536（微信同号）
EVG 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于EVG 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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