美国 KRi 霍尔离子源 eH 1000

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
上海伯东代理美国原装进口 KRi 霍尔离子源 eH 1000, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 实现离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

KRi 霍尔离子源 eH 1000 技术参数

* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder

KRi 霍尔离子源 eH 1000 应用
• 离子辅助镀膜 IAD
• 预清洗 Load lock preclean
• 预清洗 In-situ preclean
• 沉积镀膜 Direct Deposition
• 表面改性 Surface Modification
• 低能刻蚀 Low-energy etching
• 聚合物基材 Polymer Substrates

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.


上海伯东版权所有, 翻拷必究！

若您需要进一步的了解详细信息

请联络上海伯东: 叶女士 M:******微信同号)    

美国 KRi 霍尔离子源 eH 1000信息由伯东企业（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于美国 KRi 霍尔离子源 eH 1000报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

1978 年 Dr. Kaufman 考夫曼博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. KRi 离子源在真空环境中实现薄膜沉积, 干式纳米刻蚀和修改材料表面性能.

在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, 具有原子级控制的材料和表面特征.

美国 KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 

上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理. 全权负责新机销售和售后维修