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上海伯东美国考夫曼公司KRI 离子源总代理

参考报价: ¥5000 RMB(人民币) 型号: KRI 离子源
品牌: 考夫曼 产地: 德国
关注度: 18 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

上海伯东是美国考夫曼公司 KRI 离子源大中华地区总代理,离子源发明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士 1960 年发明离子源并将此专利授权 VEECO 生产,1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国自行创立考夫曼公司 Kaufman & Robinson.Inc (KRI) 生产离子源.2014年 VEECO 宣布关闭旗下离子源部分生产工厂

美国考夫曼公司 KRI 离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利,型号包含考夫曼离子源 Gridded Ion Beam Source;霍尔离子源 Griddless Ion Beam Source.美国考夫曼公司 KRI 离子源广泛应用于友厂,如德国普发 Pfeiffer Vacuum Classic 镀膜机,龙翩真空 Lung Pien 镀膜机,4Wave 离子刻蚀机等.

 

美国考夫曼公司 KRI 离子源主要优点:
考夫曼离子源: 高离子能量低离子浓度,离子抨击能量强,蚀刻效率快,可应用多种基材,单次使用长久,耗材成本极低,操作安装简易.
霍尔离子源:高离子浓度低离子能量,离子束涵盖面积广,镀膜均匀性佳,模块化设计,增加光学膜后折射率,操作安装简易.

美国考夫曼公司 KRI 离子源主要应用于
1.光学镀膜 OC(Optical Coating )
  推荐霍尔离子源 eH 200,eH 400,eH 1000,eH 5000F
2.离子源助镀 IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)
  推荐霍尔离子源 eH 1010F,eH 1020F
3.离子溅镀 IBSD (Ion Beam Sputter Deposition)
  推荐考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 300;KDC 10,KDC 40,KDC 75
4.离子刻蚀 IBE (Ion Beam Etching)

考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 140,RFICP 200,RFICP 300

上海伯东依据客户实际需要提供完整真空应用解决方案,如真空泵选型销售(德国普发 Pfeiffer 机械泵,分子泵;美国 Polycold 低温泵),真空系统检漏(德国普发 Pfeiffer 氦质谱检漏仪),真空阀门选配(美国 HVA超高真空阀门,德国普发 Pfeiffer 真空阀门),蒸镀源选型(美国考夫曼公司 KRI 离子源)等等.

 

上海伯东主要经营产品:德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空计,真空规管; 氦质谱检漏仪,质谱分析仪,四级杆质谱仪;以及美国 HVA 真空阀门, Polycold冷冻机,Gamma 离子泵和美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源


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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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