IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,为评价目的样品的制作。*1平面研磨(Flat Milling®)是位于日本国内的日立高新技术有限公司的注册商标。特点高通量的断面研磨配备断面研磨能力达到500 µm/h*2以上的高效率离子枪。因此,即......
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter ......
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量,并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。 与机械抛光不同,离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此,用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大,不仅包括扫描电子显微......
高性能与高灵活性兼备“Ethos”采用日立高新的核心技术--全球领先的高亮度冷场发射电子枪及新研发的电磁复合透镜,不但可以在低加速电压下实现高分辨观察,还可以在FIB加工时实现实时观察。SEM镜筒内标配3个探测器,可同时观察到二次电子信号的形貌像以及背散射电子信号的成分衬度像;可非常方便的帮助FIB找寻到纳米尺度的目标物,对其观察以及加工分析。另外,全新设计......
操作简单且直观* :和TM4000Plus搭配应用实例* :探测器内置型(制造商: 德国Bruker nano GmbH)特点通过简单操作即可迅速获取彩色X射线面分布移动到指定位置,可实时确认其谱图双屏显示仅需选择图像和模板,即可在生成Word®、Excel®、面分布信息的同时,实时显示点分析、线分析结果等多种分析。超高的性能(hyper map)成就了一次......
图标按操作流程顺序排列,操作简便通过对应谱图可简单确认元素重叠状况通过TruMap功能分离出谱峰重叠元素并准确显示(AZtecOne)* : 和TM4000Plus搭配应用实例* : 探测器内置型 (制造商:英国牛津仪器)特点AZtec系列有以下3种机型。简易: AZtecOneGO高性能: AZtecOne多功能分析: AZtec EnergyAZtecO......
AFM5500M是操作性和测量精度大幅提高,配备4英寸自动马达台的全自动型原子力显微镜。设备在悬臂更换,激光对中,测试参数设置等环节上提供全自动操作平台。新开发的高精度扫描器和低噪音3轴感应器使测量精度大幅提高。并且,通过SEM-AFM共享坐标样品台可轻松实现同一视野的相互观察分析。 特点1. 自动化功能高度集成自动化功能追求高效率检测降......
此次推出的SU7000采用全新设计的探测器,使得对二次电子信号、背散射电子信号的检测以及分离能力大大提升。以前我们要根据不同的观察信号来调整样品与透镜之间的距离(工作距离/以下简称WD),以获得最佳的观察与分析条件,而SU7000通过新研发的样品仓以及检测器系统,可在同样的WD的条件下更高效地接收各种信号,缩短了样品观察和分析的时间,提高了测试效率。 而且,......
日立紧凑型毛细管电泳DNA测序仪DS3000结构紧凑,同时秉承于日立优异的毛细管及激光检测技术,可轻松完成测序与片段解析。 1.触摸屏式,布局直观设备采用GUI的触摸屏显示设计。结构紧凑,节省空间,提升操作性能。布局直观,运行状况一目了然。简化流程,可轻松完成基因检测。 2.采用卡槽式包装,安装简便,维修频率降低DS3000采用无泵注胶系......
主要特点(1) 高测量性能垂直方向分辨率利用光干涉方法,通过独自的算法,实现0.01 nm*的垂直方向分辨率重现性利用干涉条纹测量凸凹的高度,通过将来自Z驱动机构的影响zei小化,实现0.1 %以下的重现性测量速度由于不需要样品的前处理,只要将样品放置在样品台上即可完成测量准备。通过光干涉方法zei快5秒钟即可完成测量测量视野以从干涉条纹获取的信息为基础进行......