半导体检测与分析仪
仪器名称：Zeta电位分析仪研究对象：纤维、薄膜、粉末、粒子、固体金属或非金属片等材料。主要用途：测量材料的表面电荷，了解材料表面上的电荷状况，研究材料表面性能。主要应用：材料表面改性 材料表面黏附、吸附、脱附等 ......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，......
安捷伦Agilent ICP-OES5800参考多项行业标准。完成半导体的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的元素分析项目。 ICP-MS 作为一种金属元素分析仪器应用于半导体产业链，始于 20 世纪 80 年代。随着半导体制程的不断迭代，整个行业对 ICP-MS 的性能提出了越来越高的要求。过去 30 年来，位于日本东京的安捷伦 ICP-MS 全球研发......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域，用来检测Semiconductor，可完成Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 我们的设备和工艺已通过......
安捷伦Agilent 5900 SVDV ICP-OES 5900 ICP-OES 用于测定半导体，符合行业标准。适用元素分析项目。 ICP-MS 作为一种金属元素分析仪器应用于半导体产业链，始于 20 世纪 80 年代。随着半导体制程的不断迭代，整个行业对 ICP-MS 的性能提出了越来越高的要求。过去 30 年来，位于日本东京的安捷伦 ICP-MS 全球......
点击查看下载密度计真密度分析仪安东帕 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 粉体真密度是粉体特性的重要指标之一。在测试过程中，一些操作以及参数的调整对结果的准确性及稳定性起到关键作用。 仪器简介：UPYC1200型真密度计和PPYC五室真密度计是全自动高精度气体密度计，用于测定固体，泥浆，泡沫材料的真实密度.技术参数：基本参数: PPYC 五室真密度......
点击查看下载粒度分析仪岛津激光粒度仪 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 SALD系列提供了一组产品，适合多种粒度范围测量。参考测量范围表选择更佳型号。 型号-1型号-2测量方法激光衍射方法测量范围0.25-50μm*0.25-350μm*光学系统光源半导体激光器（波长670纳米）样品池批式池高耐火玻璃及四氟乙烯循环池-融合硅，SU304，及四氟乙......
点击查看下载粒度分析仪岛津激光粒度仪 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 SALD系列包含多款产品，适合多种粒度范围测量。请根据您的测量范围选择更佳型号 SALD® 201V粒度分析仪是一个便捷、经济的仪器，具有高性能、高可靠性，广泛应用于食品、液体、化妆品和制药领域。其测量范围为0.25到350µm，适用于大部分常规分析需求。Windows® 9......
Ionfab300IBD客户选择我们的离子束沉积产品，是因为它们可以生产高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供多样化的刻蚀和沉积方法，并且可以在同一设备上实现，从而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。多模式功能能够与其他等离......
化合物半导体的刻蚀包括AlGaN/GaN/AlN的刻蚀，氮化铝镓的深度刻蚀，还有GaP、磷化镓、GaAs/AlGaAs、砷化镓/砷化铝镓、GaSb、氮化镓、InSb、锑化铟、InP/InGaAsP、磷化铟/铟镓砷磷、InGaAlP、铝镓铟磷、InP、磷化铟、InAlAs、砷化铟铝、InP/InGaAsP、磷化铟/铟镓砷磷、ZnSe的刻蚀。还有反应离子刻蚀硒化......