半导体检测仪器
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Semiconductor项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Semiconductor等样品。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture Plasma......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Semiconductor，适用于Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture Plasm......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域，用来检测Semiconductor，可完成Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 我们的设备和工艺已通过......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工最大......
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于纳米材料行业领域。 失效分析 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaP......
点击查看下载PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪牛津仪器 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。......
Ionfab300IBD客户选择我们的离子束沉积产品，是因为它们可以生产高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供多样化的刻蚀和沉积方法，并且可以在同一设备上实现，从而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。多模式功能能够与其他等离......
化合物半导体的刻蚀包括AlGaN/GaN/AlN的刻蚀，氮化铝镓的深度刻蚀，还有GaP、磷化镓、GaAs/AlGaAs、砷化镓/砷化铝镓、GaSb、氮化镓、InSb、锑化铟、InP/InGaAsP、磷化铟/铟镓砷磷、InGaAlP、铝镓铟磷、InP、磷化铟、InAlAs、砷化铟铝、InP/InGaAsP、磷化铟/铟镓砷磷、ZnSe的刻蚀。还有反应离子刻蚀硒化......