半导体检测设备
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Semiconductor，适用于Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture Plasm......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Optoelectronic Semiconductor，适用于Optoelectronic Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于电子/半导体行业领域。 Plasma Solutions for Optoelectronic Se......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Power Semiconductors，适用于Power Semiconductors项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 失效分析 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra用于测定Nano Material，符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力。该工艺模......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在高分子材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm......
点击查看下载刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro 100 系统-2017 PlasmaPro-100-Brochure PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该......