leica em tic 3x参数
徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 适用于截面结构项目，参考多项行业标准。可以检测半导体芯片等样品。可应用于纳米材料行业领域。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解......
Leica EM TIC 3X 徕卡切割机 徕卡电镜制样产品资料_Leica EM TIC 3X离子研磨仪_样本、参数、价格、应用案例、配置对比等
参考成交价格： 100~200万元[人民币]
型号：Leica EM TIC 3X
徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 参考多项行业标准。完成电镜制样产品的检测。可以用在多个行业领域中的电镜制样产品资料_项目。 LEICA EM TIC 3X 三离子束研磨仪您是否需要制备硬的，软的，多孔，热敏感。脑性和/或非均质多相复合型材料.获得高质量样品表面，以适宜于扫描电子显微镜（SEM分析和原子力显微镜AFM检测?......
徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X可以用在电子/半导体行业领域，用来检测半导体芯片，可完成截面结构项目。符合多项行业标准。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决......
徕卡德国 三离子束切割仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 参考多项行业标准。完成半导体芯片的检测。可以用在纳米材料行业领域中的截面结构项目。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决......
点击查看下载Leica EM TIC 3X 德国离子研磨仪 EM TIC 3X徕卡 Leica EM TIC 3X离子研磨仪相关资料，进一步了解产品。 为透射电镜/扫描电镜/生命科学/工业材料样品提高样品制备全套解决方案.徕卡纳米技术部提供：超薄切片，组织处理，高压冷冻，镀膜，临界点干燥，机械研磨抛光，离子束研磨，冷冻断裂/复型及真空环境传输等各类技术手段，......
点击查看下载徕卡Leica EM TIC 3X 切割机 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属、陶瓷、地质等各种材料......
抛光机徕卡Leica EM TIC 3X 标准有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部zei真实结构信息，在使用徕卡EM TIC3X之前，这......
点击查看下载抛光机徕卡Leica EM TIC 3X 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡EM TIC 3X可以灵活选择多种样品台，不仅适用于高通量实验,也适合于特定制样需求实验室。依据您具体需求，每一台徕卡 EM TIC 3X都可装配多种可切换样品台，如标准样品台，三样品台，旋转样品台或冷冻样品台，应用于常规样品制备，高通量样品制备，以及某些高分子聚合物，......
点击查看下载徕卡Leica EM TIC 3X 切割机 Leica EM TIC 3X三离子束切割仪产品单页相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层......
点击查看下载Leica EM TIC 3X 徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3X 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料......