电子显微镜电子枪
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连......
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，......
分辨率高真空模式分析时低真空模式1.5nm(@30kV),4nm(@1kV)3nm(@15kV，探针电流1nA)1.8nm(15kV,BED)放大倍率X5-X600,000（以128X96mm 的显示尺寸规定放大倍率显示倍率X14-X1,679,449(以358mmX269mm的显示尺寸规定放大倍率)电子枪高亮度六硼化镧电子枪加速电压加速电压：0.......
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，......
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连......
产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。电子束能大范围地快速扫描，通过专用の控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控......
产品特点：电子束能大范围地快速扫描，通过专用の控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控制熔融面和膜厚分布。JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点......
主要特点◇ 自动样品更换系统该系统由一个液氮冷冻样品台和冷冻传输系统构成， 该冷冻传输系统能够自动地将冷冻样品传送到冷台，液氮也是按照 需要自动地供应给液氮箱。在样品更换系统内可以保管12个被冷冻的样品，在取出和更换一个或几个样品的同时，其他的冷冻样品仍然保存在自动样品更换系统内。◇ 冷场发射电子枪冷场发射电子枪能够产生高亮度低能量散射的......
产品规格：分辨率300 kV，80 kV物镜种类※1UHR极靴HR极靴STEM分辨率（300kV） 使用STEM校正器0.063nm0.082nmTEM分辨率（300 kV）线分辨率0.05nm线分辨率0.06nm使用TEM校正器非线性信息分辨极限0.06nm非线性信息分辨极限0.08nm线性信息分辨极限0.09nm线性信息分辨极限0.12nmJEM-ARM......