电子显微镜优点
产品规格：拼接精度≦±3.5 nm套刻精度≦±5 nmJBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：利用步进重复式......
Thermo Scientific™ Prisma™ E SEM是首台支持一体化ColorSEM技术进行直观元素分析的钨灯丝扫描电子显微镜。Prisma 配置环境真空模式，并可灵活配置，多种配件选项能够满足各种需求。学术和工业研究实验室需要利用现代化SEM从最广泛的样品中获得大量数据，并获得出色的图像质量。同时，由于多数实验室均为多人操作或管理设备，SEM要......
TecnaiFEI Tecnai™ 透射电子显微镜 (TEM) 旨在为生命科学、材料科学、纳米技术以及半导体和数据存储行业提供真正的通用成像和分析解决方案。Tecnai G2 系列将现代技术与科学界极富创新能力且严格的要求完美结合起来，而且该产品系列中包括将近 20 款型号。更多信息，您可访问：http://www.fei.com/pro......
Talos先进科技集于一身 Talos™ 是新一代 TEM 产品，致力于让用户迅速访问二维和三维数据，从而专注于研究发现。Talos 的配置适合开展材料研究和生命科学研究，是一款融合了众多创新技术的多功能系统，能够在未来数年里满足您的研究需求。Talos 的材料科学应用Talos 可以在多个维度开展快速、精确、量化的材料表征分析，而且配备了全新的软......
Helios DualBeam™扫描电子显微镜......
技术参数：1.分辨率: 二次电子: 高真空模式 3.0nm @ 30kV, 8nm @ 3kV 高真空减速模式 7nm @ 3kV (可选项) 低真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV 环境真空模式 3.0nm @ 30kV 背散射电子 4.0nm @ 30kV2.样品室压力最高达2600Pa3.加速电压200V ～ 30kV，连......
仪器简介：对材料特性的全面认识是理解材料性能的基本前提。材料形态、晶体结构、化学成分、界面结构、表面以及缺陷都对材料的性能产生影响。透射电子显微镜已经被证实是在小到埃级尺寸研究各种普通材料和先进材料的非常有效的技术。它能够产生很多的信号, 这些信号携带了不同类型的有用信息。Tecnai G220经过特殊设计可以快速有效地采集和处理这些信号。将高分辨图像、明场......
仪器简介：Tecnai G2透射电子显微镜是FEI生产的新型、性能优越的艺术级仪器。Tecnai G2运行在Windows XP的操作系统下，提供了高性能和多功能, 用户在使用方便、个性化和安全环境下可轻易获得大量的高质量分析成果。Tecnai G2使透射电子显微镜的操作比以往更方便简捷。 在Tecnai G2上, 所有的操作和探测系统......
FEI Scios™ 是一款超高分辨率 DualBeam™ 分析系统，能为包括磁性材料在内的众多样本提供出色的二维和三维性能。FEI Scios 的创新功能可提高通量、精度与易用性，非常适于学院、政府和工业研究环境中的纳米量级研究与分析。高级检测技术是 FEI Scios 的核心技术。透镜内 FEI Trinity™ 检测技术能够同时收集所有信号，既节省了时......
