电子束曝光机
是针对液晶显示器和触摸屏大批量生产的一款自动曝光设备特点：*具有较高的设备稳定性。*具有较高的生产对应能力和处理速度 24sec/Sheet*搭载USHIO自主研发的光学系统。*具有较好的对位识别系统，提高并完善了对位成功率，进一步提高了生产效率。 用途：*液晶显示器和触摸屏生产工艺的大批量生产。......
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点：l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kVl ......
(一). 多功能电子束光刻设备Pioneer Two: Pioneer Two是一款高性价比的成套的电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。 20keV下在HSQ胶上曝光亚8nm线条(二). 多功能电子束光刻设备eLine Plus: &nb......
产品规格：拼接精度≦±3.5 nm套刻精度≦±5 nmJBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：利用步进重复式......
上海纳滕高精度电子束曝光系统 具有高通量的特点ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点：l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小......
上海纳滕高精度电子束曝光系统 具有超高书写精度特点ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点：l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应......
上海纳滕高精度电子束曝光系统 具有均匀性好特点ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点：l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小......
上海纳滕高精度电子束曝光系统 具有易于控制的电子束条件ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点：l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近......