电子束测量
品牌： GATAN 名称型号：Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司免费咨询电话：800-8900-558售后服务电话：800-8900-558 产品综合介绍： &nb......
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。 利用zei细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细......
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。产品特点：JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能......
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/......
电子束感应电流（EBIC）的工作原理是使用电子束的束在材料中局部产生电子空穴对。这些电子和空穴在材料中具有不同的寿命和活动性。产品综合介绍：产品功能介绍 EBIC分析系统，可以实时软件控制全自动采集电子束感生电流（EBIC）信号，获得EBIC图像信息，还可......
在测量EBIC信号时，我们测量了构成通过完成电路流经器件的电流信号的每个空穴和电子元件的贡献。当电子束移动时，您会在每个点上形成响应的图像。产品综合介绍：产品功能介绍 EBIC分析系统，可以实时软件控制全自动采集电子束感生电流（EBIC）信号，获得EBIC图像信息，还可以获得IV曲线信息，zei......
远离结或界面的信号衰减可以测量关键的半导体器件参数，例如少数载流子的扩散长度、弛豫时间以及对耗尽区域的范围进行成像。电子和空穴对材料中电场的局部差异高度敏感，并且擅长表征可以局部改变生成和复合速率的结晶缺陷。自该技术在20世纪80年代初普及以来，EBIC已被用于表征各种半导体材料和器件。产品综合介绍：产品功能介绍 &n......
当电子束撞击半导体材料时，它会释放出大量的能量。这种能量可以释放出揭示元素组成的特征性X射线。反向散射电子，从原子核中散射出来，对原子量敏感。次级电子是在材料中被激发的电子，具有足够的能量在真空中释放和自由行进，并且是SEM中的主要成像模式。产品综合介绍：产品功能介绍 EBIC分析系统，可以实时......
产品特点：是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿。JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。zei先进......
产品特点：利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿。JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV......