原子层沉积仪器
台式三维原子层沉积系统ALD &nbs......
PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命，如锂电正极或负极材料，经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升，但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主，该方法包覆均匀性较差，性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆，是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可用于测定Nano Material，适用于Nano Material项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于生物质材料行业领域。 纳米材料生长和表征 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的Power Semiconductors项目。 失效分析 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPr......
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统很多人相信，潘多拉的魔盒还埋藏着尚未开发的宝物——希望！正是基于对于新技术应用的美好愿景，Forge Nano 开发了 PANDORA 台式原子层沉积系统， 这一工具巧妙地将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合，是绝无仅有的高效研发工具。使用者可轻易地在粉末与......
THEIA 超快平面原子层沉积系统THEIA 是一款高性能，稳定，灵活，可靠且安全的研发型原子层沉积系统，兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造，从而满足科学研究的各种需求，并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。产品规格1. 专利技术 SMFD-ALDTM 超快沉积：12-30 nm/min2......
点击查看下载刻蚀和沉积设备牛津仪器半导体检测仪 PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺......