原子层沉积设备
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......
点击查看下载刻蚀和沉积设备牛津仪器半导体检测仪 PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺......
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积（ALD）设备，配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD，在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于直径小至200mm的晶圆。它可以实时监测四种液体或固体前驱体的蒸气吸取或鼓泡，包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可通过简......
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD，这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于小尺寸至200mm的晶圆片。它可以实时检测蒸汽吸收或鼓泡四种液体或固体前驱体，并且可以与ALD控制软件联接的光谱椭偏仪。OpAL系......
THEIA 超快平面原子层沉积系统（ALD）是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备，具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造，以满足科学研究的各种需求，实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。产品规格1. 专利技术 SMFD-ALD 超快沉积速度：12-30nm/min2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次3. 专利阀门：可实现......
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种卓越的研发工具，结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术，可轻松在粉末和平面样品之间切换，而不影响研究效率。产品规格如下：1. 前驱体通道：3-6连续流/静态流兼容3. 反应腔：100ml粉末腔/10×10cm平面4. 反应腔结构：旋转式5. 反应腔温度：最高200℃6. 配件：In-situQCM，等离......
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种高效的研发工具，将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合在一起。该系统具有旋转式反应腔，可用于粉末样品的分散，同时也支持快速切换平面样品。PANDORA 设有在线分析系统，可以实时监测前驱体和副产物，帮助改良沉积工艺。此外，石英微天平可以实时监测材料的质量变化，帮助研究者获得更高质量的薄膜。系统符合 cG......
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统，让很多人相信，潘多拉的魔盒里埋藏着尚未开发的宝物——希望！这台工具结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术，是独一无二的高效研发工具。使用者可以轻松地在粉末和平面样品之间切换，而不用担心影响研究效率。产品规格1. 前驱体通道：3-62. 连续流/静态流兼容3. 反应腔：100ml粉末腔/10×10cm平面4.......
PROMETHEUS流化床原子层沉积系统粉末包覆能够有效增强材料性能和使用寿命，特别是锂电池的正极或负极材料。经过表面包覆处理后，放电性能和循环使用寿命都有显著提升。然而，目前工业上主要采用机械混合的干法进行包覆，导致包覆均匀性较差，性能提升有限。ALD技术能够实现高精度和均匀包覆，是理想的包覆手段。ForgeNano采用流化床技术来处理粉末类材料，以确保前......
PROMETHEUS流化床原子层沉积系统可以提高材料性能和使用寿命，特别适用于锂电池的正极或负极材料。目前工业上常用的包覆方法是机械混合的干法，但这种方法无法实现均匀包覆并且性能提升有限。ALD技术能够实现高精度均匀包覆，是一个理想的包覆手段。 ForgeNano针对粉末类材料比表面积大的特点，采用流化床技术实现粉末材料的流化，从而保证前驱体与粉末充分接触。......