仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV,EBR-50kV两种不同型号,都配备热场发射电子腔。技术参数:Electron gun / Filament type Thermal Field Emission ......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系统&nbs......
Quantum Design小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。完成MoS2、Cr2S3的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的无掩膜光刻直写项目。......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 Microwriter ML3......
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机基本介绍LAM 2300 Exelan Flex是泛林集团(Lam Research)推出的高性能等离子体干法蚀刻设备,专为半导体制造工艺设计。该设备结合高精度工艺控制与灵活性,适用于逻辑芯片、存储芯片(如3D NAND、DRAM)及 封装技术(如TSV)的复杂蚀刻需求。LAM 2300 Exelan Flex蚀......