电子束直写设备
德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪型号：Zeiss Sigma SEM 主要功能：·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（最小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿领域。 技术指标：·肖特基热场发射电子......
德Zeiss电子束直写仪SEM 型号：Zeiss Sigma SEM 主要功能：·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（最小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿领域。·技术指标：·肖特基热场发射电子源·加速电压：100V～30kV·......
电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography)电子束直写系统 、 电子束曝光系统CABL-9000C series纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。&nbs......
(一). 多功能电子束光刻设备Pioneer Two: Pioneer Two是一款高性价比的成套的电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。 20keV下在HSQ胶上曝光亚8nm线条(二). 多功能电子束光刻设备eLine Plus: &nb......
四轴飞秒激光直写系统Spearay-4Axis 系统是针对管状材料精密切割设计的，利用一维高精度旋转轴、两维扫描振 镜、三维XYZ 精密定位系统，结合超快激光微加工特点，能够实现薄壁管材的精密切割、保持表面完整性的表面标刻、和功能性超表面处理。 主要应用• 心血管支架加工• 玻璃管等管状样品切割• 柱状曲面加工配置参数：• 扫描振镜（用于激光划切）......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系统&nbs......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3可用于测定MoS2、Cr2S3，适用于无掩膜光刻直写项目。并且参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。可应用于电子/半导体行......
Phenom台式扫描电子显微镜标准版Pure Phenom pure参考多项行业标准http://www.phenom-china.com/blog/details.aspx?id=45。完成光刻胶材料的检测。可以用在多个行业领域中的激光直写技术制造光子设备项目。 光子设备被广泛应用于自然科学中，用于制造，操作和探测光。在未来，制造先进的光子设备将是一种挑战......
产品特点：zei快达到100ＭＨｚ的高速化扫描速度，保证了大电流描画时的扫描步距很短，因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的zei小定位单位及高分辨率，达到了世界zei高水准的位置精度。本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形......
产品特点：本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。zei大扫描速度高达50MHz，再加上zei大程度地抑制了机器的准备操作时间，因此缩短了描画时间，到描画开始为止的作业非常简单，聚焦也能够自动进行，因而能提高总产出量。使......