德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪
型号：Zeiss Sigma SEM


 

主要功能：
·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（最小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿领域。

 

技术指标：
·肖特基热场发射电子源
·加速电压：100V～30kV
·放大倍率：12X～1000,000X
·SEM分辨率：1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm（1kV）
·电子束曝光：10nm（20kV）
·场拼接精度：<100nm
·扫描频率：6MHz
·图形格式：GDSII

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途