pld脉冲激光薄膜沉积系统
薄膜制备领导者BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wa......
仪器简介： PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我们PLD系统拥有zei好的性能价比,具有以下优异的性能: 主真空室腔体直径......
美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。 应用： ZnO材料功能薄膜 STO薄膜 金属薄膜 超导薄膜 铁电功能薄膜 功能......
仪器简介：脉冲激光沉积（PLD）简介 美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备，特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统，还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等，另外可为客户订制激光分子束外延设备(L-MBE)。 根据客户的不同需求，提供以下型号： 1．小面积PLD系统，也就是NANO-PLD型，该系统简单、紧凑，具有多种功能，非常适合小型的研发......
仪器简介： 应用： -Focusing the high power pulsed laser beam to strike a target -Oxide compound deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数： 腔形状 : ......
脉冲激光沉积系统(PLD)、激光分子束外延设备(L-MBE) 设备简介：产地：美国NBMPLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我司PLD特点：我们PLD系统拥......
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术，以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术中，光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。除了光学吸收外，在沉积条件下的高蒸气压是基质......
产品简介激光 MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数 RHEED 通常在高真空（<10 -6 torr）环境下使用。......
产品简介Pioneer120 PLD System是基础型独立PLD系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热， 其他模型使用辐射加热阶段。为了达......
产品简介Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于，具有更大的沉积模块，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升级。Pioneer 1......