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脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System

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参考报价: 面议 型号: Pioneer 180 PLD System
品牌: Neocera 产地: 美国
关注度: 2 信息完整度:
样本: 暂无样本 典型用户: 暂无
产地属性美洲

特点

•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

•使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

•氧化膜沉积的氧相容性。

•升级:离子辅助PLD,组合型PLD,目标衬底负载锁定。

•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射,直流离子枪。

•与XPS /ARPES特高压集群工具集成,原位特高压晶片转移。

•原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。

Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于,具有更大的沉积模块,有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升级。Pioneer 180 PLD系统集成了兼容氧的辐射加热台。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气,这是一种特性助于制备外延氧化膜,即满足了(i)沉积在氧气中,(ii)沉积后退火在氧气中,以及在接近1大气压的氧气中冷却。衬底连续旋转,并可以负载锁定。Pioneer 180 PLD系统包括一个自动多目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器,目标转盘,过程压力,系统泵和激光触发。由于衬底可以转移,多种选择变得可行。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如特高压溅射系统)集成,也与特高压分析系统(如XPS/ARPES等)集成。


技术参数


Pioneer240

Pioneer180

 Pioneer120A

最大wafer 直径

8”

6”

2”

最大靶材数量

6 个1” 或3 个2”

6 个1” 或3 个2”

6 个1” 或3 个2”

压力(Torr) *

5*10-8

5*10-9

5*10-9

真空室直径

24”

18”

12”

基片加热器

360°旋转

360°旋转

360°旋转

最高样品温度

850 ℃

850 ℃(升级1000 ℃)

950 ℃

Turbo 泵抽速*
(liters/sec)

700

软件控制

400

软件控制

260

软件控制

计算机控制

包括

包括

包括

基片旋转

包括

包括

选件

基片预真空室

包括

选件

选件

扫描激光束系统

包括

选件

-

靶预真空室

包括

选件

-

IBAD 离子束辅助沉积

选件

选件

选件

CCS 连续组成扩展

选件

选件

-

高压RHEED

选件

选件

选件

520 liters/sec 泵

N/A

选件

-

... ...






脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System信息由北京正通远恒科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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