涡流检测仪器设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器，光......
PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻（DSiE）领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了工艺灵活性。光滑侧壁工艺高刻蚀速率腔刻蚀高深宽比工艺锥形通孔刻蚀广泛的应用领域机械或静电压盘加热内......
品牌:牛津仪器型号:Ionfab300产地:欧洲Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现， 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，......
性能可靠、坚固耐用NORTEC 600仪器的机壳已经过实地验证，非常坚固耐用，可以在条件恶劣的野外环境中正常操作。由于NORTEC 600的机壳具有抵御极端恶劣天气的耐用性能，因此可以保证用户顺利完成任何涡流检测工作。主要特性设计符合IP66要求符合EN-15548标准长时电池操作时间（长达10小时）5.7英寸明亮的VGA显示屏所有显示模式下的全屏......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Semiconductor，符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Power Semiconductors，适用于Power Semiconductors项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 失效分析 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Nano Material，适用于Nano Material项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 纳米材料生长和表征 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力。该工艺模......