全反射X射线荧光分析

2025-02-27 11:19:56, 国科仪器 安徽国科仪器科技有限公司


点击蓝字

关注我们



01

简介

全反射X射线荧光(TXRF)是一种表面元素分析技术,通常用于分析颗粒、残留物和光滑表面上的杂质。


TXRF本质上是一种具有特殊反射几何的能量色散XRF技术。入射光束掠射至平坦样品载体上,掠射角低于X射线外部全反射的临界角,导致大部分激发光束光子在此表面反射。样品一般是沉积在载体上的非常薄痕量物质,被在非常小角度下进行观察。得益于这种构型,在TXRF中测量的光谱背景小于传统的XRF,因此使信噪比增加。


TXRF按其应用范围可分为:

 化学分析:样品一般会经过化学处理,包括悬浮、溶解、矿化、预浓缩和分离等步骤

微量分析:对微量样品(通常为少量颗粒)进行分析。在这方面,TXRF是考古学和法医取证等领域的重要工具。

 表面分析:TXRF可对平坦表面的化学成分进行即时分析。


限制EDXRF技术信噪比的原因之一是因为使用了直接激发型X射线管,使测试光谱中产生大量的背景噪音。这个背景噪音是由于X射线管光谱中Bremstrahlung部分造成的。被散射的高能光子不仅增加了被测光谱区域中的高能区域的背景,还可能被多次散射并在低能量区域产生背景噪音。



1.1- 反射现象

X射线与任何其他电磁波一样,在任何均匀(透明)介质,例如在真空中,都会沿直线路径传播。但是,如果X射线光束在传播过程中入射至第二种介质的边界表面,比如固体的表面,它将偏离原始方向。该偏离的性质取决于光子的能量,构成界面介质的性质以及入射光的角度。在某些条件下,光束可以被分开,即它的一部分被反射回第一中介质,剩下的部分被折射至第二种介质。



1.1.1- 全反射现象

与可见光光子的性质不同,对于X射线而言,任何介质密度都低于真空,任何固体的光学密度都低于空气,这导致折射光束偏向界面。在此逻辑上,可以看到存在一个最小临界角 α1 = αcrit作为发生折射的条件。对于小于 αcrit 的 α1 角度,没有光束可以被折射进入介质 2.界面就像一面理想的镜子,将入射光束完全反射回介质 1,这种现象称为全反射。



















1.1.2- 全反射中的临界角

临界角可以根据以下公式计算:



从上式可以得出两个重要结论:

 给定能量光子仅在某个掠入射叫,即临界角下发生全反射。

 设置在特定角度的反射器将仅反射来自多色光束中的部分光子,即那些能量满足全反射条件的部分。


1.1.3- 低通滤波器的全反射

由于全反射角取决于光子的能量,因此可以使用此效应修改激发光谱光束。通过消除来自激发光谱的高能光子,可以最小化它们对测量光谱背景的贡献,从而达到更好的检测限。

通过这种方式,可以使用全反射来“过滤掉”白光X射线中能量高于给定值的光子。换句话说,可以在X射线光路上使用平坦的基底作为低通滤波器,且不会明显影响光束的强度。



1.2- 基本 TXRF 设置

通常TXRF光谱仪有几种不同的设计,但用在一般实验室中,它们通常是基于X射线管的使用。来自于传统X射线管中的多色准直光束被第一个反射器改变方向,使主光谱发生改变。对于大多数应用,平坦、抛光过的石英玻璃块就足够了,用于充当低通滤波器去除Bremsstrahlung连续光谱中的的高能光子(即截断)。或者,第一个反射器可以用类似单色器的装置所替代。一些单晶或多层结构的装置可以充当布拉格反射器。

 

只有在这种“光谱修改器”上被反射的光束才被允许以掠入射的方式照射至样品载体,其角度小于确保对主要激发能量进行全反射的角度。样品支架可以装载一些样品材料,也可以是被分析的实际对象本身。


从样品中产生的X射线辐射随后被能量色散的固体检测器所分析,这种检测器通常为Si(Li)检测器。由于散射截面在90°时最小,探测器一般安装在其入射窗口平行于样品的平面上,从而最小化光谱的散射背景。到样品的距离减少到约1毫米,以确保荧光辐射的在较大的立体角内被检测。所测得的信号按强度振幅(与X射线的能量成比例)在多通道分析仪中排序,得到能量色散光谱。该测试可以在空气环境中进行,但可以设计更复杂的样品室从而兼容真空或氦气吹扫下的测试,以此减少空气对低能特征发射辐射的吸收。


1.2.1- TXRF 设置表示


1.3- 用于痕量分析目的的 TXRF

TXRF是一种相当灵活且较为经济的多元素分析技术。

 可用作微量样品的分析工具,例如沉积在样品载体上的小颗粒。

 在各钟分析研究领域都被有效地应用于元素的痕量分析。

 由于信噪比的提高,仪器检测限通常在 pg 或 ng/mL 范围内。

 由于样品层非常薄,因此定量分析不容易受到基质影响(无需校正衰减或增强效应)








安徽国科仪器科技有限公司是一家专业从事X射线结构分析设备研发、生产、销售的创新型企业,在高压XRD、高压充气系统、动态加载装置、原位多外场样品环境、小角散射仪(SAXS)、激光小角散射装置、动态光散射装置、国家大科学装置等高端X射线结构分析设备领域,国科仪器已经顺利实现设备定型与销售,为客户提供全集成、高附加值的全方位解决方案。


国科仪器将始终坚守“领航科研设备,为科研发展助力”的使命,秉承“规范守约、活力关爱,扎实创新、引领未来”的价值观,专注科研设备的研发制造与服务,旨在打造中国科研设备的领导品牌,为国家高端仪器的发展作出更大贡献!




扫码

关注我们

安徽国科仪器科技有限公司

电话|0551-63868060

邮箱|sales@gkinst.com

网址|http://www.gkinst.com



  • 客服电话: 400-6699-117 转 1000
  • 京ICP备07018254号
  • 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号
  • 京公网安备1101085018
  • 客服电话: 400-6699-117 转 1000
  • 京ICP备07018254号
  • 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号
  • 京公网安备1101085018

Copyright ©2007-2026 ANTPEDIA, All Rights Reserved