2024-04-02 14:58:52, Park原子力显微镜 Park帕克原子力显微镜
近日,国务院常务会议审议通过《推动大规模设备更新和消费品以旧换新行动方案》,这将有力促进投资和消费。为加快构建新发展格局、推动国民经济高质量发展,工业、农业、教育、医疗等多个领域,都迅速掀起了设备更新的浪潮。
作为原子力显微镜的创新者和引领者,Park Systems 将积极响应此项国家利好政策,为Park客户提供优质高效便捷的设备更新服务。Park Systems始终以“创新 高能 卓越 ”为企业理念,致力于帮助客户追求前沿的发现和创新,确保Park Systems的原子力显微镜始终走在研究事业的前沿。我们坚定承诺不断满足客户的需求,为他们提供满意的原子力显微镜使用体验。
此次大规模设备更新和旧换新活动,Park 精心为大家准备了设备更新换购单,快来看一看吧~
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Park FX40
专为高效率的原子力显微镜使用和
专为高效率的原子力显微镜使用而设计
- 基于人工智能的自动化:是一款能够自动化设置和扫描的原子力显微镜
- 提供早期警告系统和故障保护,以保护正在研究中的样品
- 配备环境传感器,便于对温度和湿度进行精准控制,以实现定制设置
Park FX40改变了传统原子力显微镜的操作流程,通过突破性的自主性和前沿技术, 将用户的利益置于首位。它集成了智能和自动化技术,能够自动执行设置和扫描任务, 使研究人员摆脱繁琐的手动操作。这包括探针识别、准直激光、样品定位和成像优化。这使用户能够更专注于他们的研究工作。借助于优秀的机电性能、降噪技术和多样品 成像功能,FX40简化了数据收集、研究工作和数据发布流程,从而加速了科学的探索 发现和创新进步。
Park NX20
介质和基底的表面测量
- NX20可测量200 mm晶圆的全部区域,无需手动晶圆即可跑满整个200 mm晶圆片
- 具有缺陷检测成像和分析功能
- 具备高分辨率电扫描模式
- 用于进行3D结构研究的侧壁测量
Park NX20是故障分析和半导体计量的理想解决方案。它提供准确、精准和可重复的 测量,采用非接触模式以保持针尖的锐度,实现快速缺陷成像,并使用解耦的XY扫描 系统进行3D测量。低噪声的Z探测器确保在高速扫描期间获得精准的形貌测量,避免错误。Park NX20具备表面粗糙度测量、缺陷检测成像、高分辨率电子扫描和侧壁测 量功能,适用于解决复杂的半导体挑战和大样品研究.
Park NX-IR
用于化学分析和材料成像的
纳米级红外光谱系统
Park NX-IR 有效融合了崭新的红外光谱技术、Molecular Vista 的光诱导力显微镜(PiFM)以及行业前沿的 Park AFM 技术。PiFM 红外光谱采用非接触式检测技术,在空间分辨率、测量可靠性和样品安全性方面皆优于现有的光谱技术,包括轻敲PTIR(光热诱导共振)。Park NX-IR 中的 PiFM不仅能够进行高分辨率红外光谱分析,还能进行高质量的红外吸收材料成像,以进行准确的化学成分测量。高分辨率红外光谱与传统的FTIR(傅里叶变换红外)光谱保持着密切的相关性。此外,Park NX-IR 还可以通过检测技术、直接驱动和边带双峰检测的变化提供不同深度的有价值的材料信息。
Park NX10
高精准度和高分辨率成像,
拥有业界领跑级的低噪音水平
- 灵活的开放式访问,可根据特定需求进行定制,并配备一系列附件
- 全面的扫描探针显微镜(SPM)模式及兼容选项和升级
- 支持在液体环境中使用扫描离子导电模块(SICM),适用于细胞生物学和分析化学
Park NX10 是科学研究和工程创新领域备受信赖的主力原子力显微镜。凭借其可靠 的精准度和用户友好的操作界面,科学家和工程师能够以高纳米分辨率获取可靠的 数据。Park NX10 提供多种测量模式和附件,使用户能够轻松为其个性的项目定制设置。
Park NX-Hivac
用于故障分析和对大气敏感材料研究
的高真空原子力显微镜
在高真空条件下进行纳米尺度的电学测量,特别是用于前沿半导体故障分析的SSRM和SCM. 具备自动真空抽气和通风的高度可用性。
Park NX-Hivac 是专为半导体故障分析和对大气敏感材料研究而设计的高真空 AFM。其在高真空环境中运行,确保更高的准确性和重复性,大大减少针尖和样品的损坏。该系统在多个应用中发挥关键作用,其中包括使用扫描扩散电阻显微镜 (SSRM) 评估掺杂剂浓度。借助Park Systems直观的Hivac管理器和自动真空控制,Park NX-Hivac 简化了真空过程,提供快速的真空条件。因此,Park NX-Hivac可在无氧真空环境中提供高精度的研究。
Park Accurion EP4
成像椭偏仪
EP4是新一代的成像椭偏仪,它有机地结合了传统光谱椭偏仪和光学显微镜技术。这使得我们能够在小至1µm的微结构上以椭偏仪的灵敏度表征薄膜厚度和折射率。显微镜部分能够同时测量光学系统全视场范围内的所有结构。传统的椭偏仪注重于测量整个光斑,而不能实现高精度的横向分辨率,并且需要逐点测量。
EP4的显微镜功能使得我们能够获得微观结构的椭偏增强对比图像。在相机的实时图像中可以看到折射率或厚度的微小变化。允许识别椭偏测量的感兴趣区域(选区测量),以获得厚度(0.1 nm-10µm)和折射率的值。单次测量就可以获取厚度和折射率横向变化的3D图。
各种联用技术,例如原子力显微镜(AFM)、石英晶体微天平(QCM-D)、反射式测量仪、拉曼光谱仪等等,可以对同一区域进行原位分析。另有在各种受控温度和气氛环境下测量的附件可选。
400-878-6829
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