邀请函 | 牛津仪器邀您参加化合物半导体先进技术及应用大会

2023-10-31 18:26:01, 牛津仪器 牛津仪器科技(上海)有限公司



化合物半导体是我国重构全球半导体产业竞争格局的重要突破口!氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓等化合物半导体在新型显示、5G/6G 通信、新能源汽车电子、电动汽车充电桩、光伏/风电、激光雷达等战略新兴领域有着广泛而重要的应用前景。我国化合物半导体产业技术总体水平与国外的差距在缩小,在国家相关政策的大力支持下,我国的第三代半导体产业有望迎头赶上,实现“换道超车”。


把握机遇,聚芯向前。2023 年 11 月 1-2 日,化合物半导体先进技术及应用大会将于太仓·宝龙福朋喜来登酒店举办牛津仪器等离子技术部与材料分析集团也受邀参与本次活动,并设立展位(展位号:13),众多技术专家期待与您交流。除此之外,等离子技术部门等离子部门主任工程师暨光电子产品线经理邓丽刚博士也将于11月2日上午9点25fe带来主题为:Plasma dry etching process review for fabricating optical devices的报告,以飨各位听众!




会议信息


会议时间:

11月1日-11月2日

会议地点:

苏州 · 太仓宝龙福朋喜来登酒店

(中国江苏省苏州太仓市上海东路288号)

参会方式:

点击阅读原文,注册参会



牛津仪器报告主题

Plasma dry etching process review for fabricating optical devices


以GaAs为主的VCSEL和InP为主的 Transceivers 光模块被广泛应用在光通信,光显示,光传感领域里。器件的设计和制造对获得一个高质量的器件尤为重要。人工智能 (AI)的应用对这些光模块又提出了更高的要求 - 高速,低损耗,宽带。整个工艺的制造过程也面临新的挑战。这个演讲将主要针对包括VCSEL和InP EML 在内的III-V组材料的刻蚀工艺给出牛津仪器的一系列新的解决方案。



报告人介绍

邓丽刚 博士

牛津仪器等离子技术部

部门主任工程师暨光电子产品线经理


2000年在英国Glasgow大学获得半导体物理方向的博士学位 , 主要研究等离子刻蚀对半导体器件的损伤。毕业之后,加入牛津仪器等离子技术部门成为工艺工程师, 2007年成为主任工程师。在牛津仪器近23年的时间里,邓丽刚博士主持研发了所有与制作各种光电子器件有关的III-V 半导体化合物材料的刻蚀工艺。 目前她是公司负责面向三维传感和数据通信相关市场的产品经理。


相关解决方案介绍


牛津仪器PlasmaPro 100系列提供200mm操作平台,可进行单晶片和多晶片批量处理,工艺均匀性优异、产能大、精度高。我们的设备经过了严格的考验,可在90%以上时间保持正常运行,并能确保在安装过程中快速启动。PlasmaPro 100系列可适用于多个市场领域,包括但不限于微机电系统和传感器、光电子器件、功率器件和纳米技术。其灵活性高,可用于研发;质量高,能满足生产需要。



我们的离子束刻蚀沉积系统可生产高质量薄膜,并可保证表面的密度和光滑度。离子束技术通过在单一设备上实现系统利用率最大化,可提供多种刻蚀和沉积方式。我们的系统有多种硬件选择,包括开放式进样和盒式进样。另外系统配置与应用紧密相关,便于取得更快,可重复性更高的工艺结果。



Jupiter XR 是牛津仪器第三代的大样品台高通量AFM,具有全自动、多功能、高精度和高通量的特点,广泛应用在于半导体工业研发、高通量的QA/QC和FA检测等领域。210 mm高精度电动马达样品台,可全程定位在8英寸样品的任意位置上;Auto Pilot自动扫描让初学者只需要轻点鼠标即可快速成像;独特的LVDT闭环高精度扫描器不仅可实现对超平表面的粗糙度测量(<60pm),还能在几十秒内完成百万像素级成像,检测通量提高10-20倍;革命性的blueDrive成像,实现一根探针连续上千次粗糙度测量。



UltimMax 系列能谱仪:有效晶体面积40-170mm2,元素检测从Be(4)开始,具有实时元素分析功能,方便快速寻找目标特征。适合从纳米到微米尺度特征分析,强大的Tru-Q算法,保证元素定性定量分析准确性。

Symmetry S3 EBSD探测器:全新CMOS EBSD,采集速度超过5700花

样/秒。微弱光检测常用的光纤板技术实现高灵敏度。百万像素高分辨花样,对晶体结构准确标定,鉴定未知相,具有更高精度的取向测量。

BEX成像探测仪Unity是同时集成背射电子和X射线(BEX,Backscattered Electron X-ray)传感器的商用成像系统。Unity全新的设计实现了背散射图像与元素面分布图的同步高效采集,为样品导航提供了高分辨率全彩成像技术解决方案。



alpha300 系列拉曼成像显微镜:拉曼成像( alpha300 R )、原子力( AFM )、扫描近场光学显微镜( SNOM )及其联用系列高共聚焦、高分辨率、高灵敏度拉曼显微系统,以其优异前沿的成像技术倍受认可。灵活的模块化设计,还可以结合更多成像技术,为您定制个性化解决方案,实现原位化学组分分析和纳米级别表面形貌分析等科学研究。





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