【新品发布】Park原子力显微镜公司官方发布 Park NX-Mask——一台专为EUV和In-Line打造的光罩缺陷修复设备

  Park NX-Mask旨在为您提供优异的解决方案，其强大的兼容性可适用于处理EUV光罩的dual pod。从自动缺陷检测到缺陷修复再到修复验证的一站式解决方案更是以前所未有的高修复效率极大地提高了生产效率，助力您的研发和生产工作。

 “Park NX-Mask配有最先进的原子力显微镜光罩缺陷修复系统，适用于高端EUV半导体制造以及光罩修复fab。它也是目前半导体市场上性价比最高的机台。”Park 原子力显微镜产品营销总监 Richard Lee如是介绍。

  Park NX-Mask的核心优势是以亚纳米级边缘定位精度进行缺陷修复、杂质颗粒去除。NX-Mask在高效修复光罩的同时，不会引入额外的样品损伤和颗粒污染。

  Park NX-Mask集自动缺陷检测和光罩修复为一体，可实现高吞吐量、高分辨率，并可避免传统方法带来的破坏性风险。此外，Park NX-Mask能为表面粗糙度和图案台阶高度提供全自动的原子力显微镜纳米计量。在非接触扫描模式下，它以亚埃垂直精度完美地做到了这一点。