高精度 SC 基质喷涂仪 Q&A 第1期

基质结晶尺寸及均匀度与 MALDI 或 AP-MALDI 质谱成像的分辨率和灵敏度高低均密切相关。

基质与待分析物质的沉积晶体颗粒在被激光击中的瞬间会熔融、脱附和解离，激光光斑所及之处将留下一连串的竖井痕迹。

当晶体尺寸及激光光斑直径均显著小于待测物表面的最小面积（即成像分辨率的靶点下限）时，此最小靶点上能生成数个灼痕，面积精控且大小均一。此时，其他临近靶点上的晶体不被熔融干扰，从而保障质谱成像的点对点的高清晰度空间分辨，避免生物体组织或材料表面的不同部位的信号交集或干扰。

此时若配合使用高频激光，同一靶点将能均衡稳定和持续地产生信号离子，而不需要过高的能量（高能量激光易引致分解）。通过累加多重信号（MCA），提升和完善超痕量生物标志物分布成像的高敏测定。

2、喷涂速度如何？

高精度 SC 喷涂仪可在很短的时间内完成喷涂。

有的喷涂仪需依靠加热喷嘴或雾化气，甚至通过加热靶板，辅助挥干基质溶剂中的水分。副作用是生物样品的原生态及酶活性会因为加热而导致降低甚至自溶和破坏。

喷涂仪经过节假日的久置，针泵、喷嘴和管路中残留的基质会发生干结粘连，造成设备无法工作。为避免基质残留影响开工后的使用，关机前需进行清洗和排空。

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从空间分辨率的角度来看这是正确的，为了实现更好的空间分辨率，我们确实需要结晶尺寸尽可能的小。

但同时需要注意的是，有利于结晶的喷雾条件对样品表面化合物的溶解提取是不利的，如只考虑采用最有利结晶尺寸的极端条件，有可能会使得化合物无法被基质浸润提取，导致成像失败。

水的含量不需要刻意加大，常用的30%比例即可。基质溶液中有机相的挥发速度比水快得多，在喷雾到达样品表面时，水相的比例已经比溶液状态时高很多了。

另外，过于潮湿的喷雾会将溶解的化合物冲刷位移，造成成像结果失真。

视频：MALDI Sprayer 超高精度基质喷涂仪

视频：CF-Spotter 超稳连续流点靶仪

产品简介：

高精度 SC 以高精度和超低流量，自动输送和喷涂基质溶液，适用于 MALDI 或 AP-MALDI 点靶、MALDI 或 AP-MALDI 质谱成像（MSI）实验中的基质喷涂、以及与纳升 HPLC 相联进行特定馏分收集或点靶（LC-Spotting）。

其中，MALDI 或 AP-MALDI 质谱成像（MSI）能显示蛋白质、肽、药物及其代谢物、生物标志物或其他化合物在人体、动物或植物组织等薄片样品中的空间分布，是生物标志物表征、药物开发、及创建三维分子图像的重要工具，常与其他成像技术（如磁共振成像 MRI）联合使用。

样品制备往往是限制 MSI 空间分辨率的重要因素。以超高精度基质喷涂仪制备样品，保障基质结晶细小且覆盖均匀，避免发生不期出现的分析物冲刷流失。

针对 MALDI 或 AP-MALDI 成像应用，分配器系统配备有 PEEK（化学惰性）六通阀，分别连接多路溶液（如不同酶或基质），由浅显易懂的软件来控制实现自动化喷洒、通道切换、通路自清洗、和分配器与注射器内基质的填充，而无需手调。

喷雾方向每隔一层旋转90°，实现最高质量的喷涂效果。分配器和喷嘴之间的自动弹压确保喷雾流量的恒定和涂层的高度均匀化。

新一代气动喷雾器配备新式载玻片固定托架，兼容所有常见的 ITO 导电玻片、或特殊尺寸的 MALDI 靶板（喷雾区域≥12 x 16 cm），直接于载玻片或靶板上涂覆基质或样品。

使用专利的（WO 2017/025205 A1）喷嘴和喷涂程序，喷雾的均质性极高，避免了常规喷涂仪极易发生的分析物被冲刷流失现象。

• 诺米，中国

• 农大，中国

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成像伴侣丨超高精度基质喷涂

AP/MALDI 质谱成像 Q&A 第2期

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