网络讲堂 | XPS实验技术和图谱分析基础

X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛，可对从Li到U范围内的元素进行研究，因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。

时间：2015年10月22日10:00 - 11:00

主讲人：葛青亲 赛默飞世尔科技XPS应用专家

主讲内容：

1. XPS实验技术基础简介

2. XPS样品制备和影响图谱质量的相关因素探讨

3. 赛默飞 Avantage软件中图谱的一般处理功能介绍

4. 复杂XPS图谱介绍

5. XPS图谱谱峰拟合方法介绍

1. 单峰拟合

2. 双峰拟合

3. 非线性最小二乘拟合

欢迎广大新老客户积极报名参加！

报名请点击“阅读原文”

↓↓↓↓