女神级的最终抛光用布------标乐ChemoMet

在样品制备时，要得到完美的抛光效果，常常需要加上最终抛光步骤，也称精抛。最终抛光的目的是去除细微磨痕并改善试样表面的光反射性，通常还会改善材料的分辨率。这一阶段通常采用1微米的金刚石、0.06~0.02微米的氧化铝或二氧化硅抛光液，并且根据制备材料的不同选取适宜的无绒、短绒、中绒或长绒抛光布。好的抛光布将使最终抛光过程变得简单而令人愉快。在客户群中备受赞誉和推崇的Buehler ChemoMet就是这样的一款女神级抛光布。

ChemoMet是一款通用的软质、多孔且耐化学药品的黑色人造微绒布，用于1~0.02微米的精抛过程，且对氧化铝和二氧化硅抛光介质都适用。它对钛、不锈钢、锡铅、焊料、电子封装、较软的有色金属和塑料等样品都可以实现完美的最终抛光效果。即使您的前序抛光过程（如3µm步骤）并不完美，ChemoMet通常也会带来超出预想的去除划痕效果。

有时最终抛光过程中，需要在抛光磨料悬浮液中加入一些化学试剂来加速残余损伤的去除。ChemoMet耐化学药品的特性也使它可以胜任这种腐蚀抛光应用。以较难制备的工业纯钛或钛合金为例，使用ChemoMet最终抛光时在胶体状二氧化硅悬浮液中加入浓度为30%的双氧水（腐蚀剂与抛光悬浮液的体积比为1:5），将会轻松地制备出无变形样品表面，可以用于彩色腐蚀、热染色或偏振光检查晶格结构。

所以，还犹豫什么，赶紧来尝试下这款非凡的女神级最终抛光用布吧。