介绍FlexAL-2D等离子体处理系统应用于二维材料的ALD

我们的ALD和2D技术专家与埃因霍温科技大学的研究团队一起提出2D过渡金属硫化物（TMDCs）的原子层沉积（ALD）在纳米设备上的应用。

FlexAL-2D ALD系统为2D材料的生长提供了许多好处：

2D材料生长2D材料的强大ALD工艺

可调谐形态

在CMOS兼容温度下

具有精确的数字厚度控制

在大面积（200mm晶圆）

自限性ALD增长

MoS2：

无氧无碳（<2％）

快速生长〜0.1 nm /周期

结晶材料高于300°C

控制基面或边缘平面取向

一个工具实现ALD电介质和其他ALD层在2D材料上生长

创建先进的2D设备结构

RF基板偏置选项用于胶片属性控制

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