2026-01-04 11:41:23, Tescan 中国 TESCAN 泰思肯(中国)
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Tescan 推出全新 FemtoChisel 飞秒激光平台,全面升级半导体样品制备流程
捷克布尔诺,2025年11月18日消息 —— Tescan 宣布推出 FemtoChisel,这是一款新一代飞秒激光平台,旨在以更高的速度、更优的精度和更稳定的重复性,为半导体样品制备带来全面升级。FemtoChisel 将在美国加州帕萨迪纳举办的 ISTFA 2025 上正式亮相。
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从设备到流程:
FemtoChisel 为半导体样品制备提速
FemtoChisel 面向半导体研发和失效分析领域,在这些场景中,高通量与灵活性至关重要。它将纳米级加工精度与高效智能激光处理相结合,可获得极为洁净的加工表面,并显著减少后续 FIB 抛光步骤,从而大幅缩短研究和分析周期,适用于当前乃至未来的新型半导体材料。
Sirine Assaf
泰思肯集团首席营收官表示
半导体研究和失效分析团队始终面临快速、可靠地获取不同材料层信息的压力。FemtoChisel 正是我们为解决这一难题、优化大体积半导体工作流程而推出的创新方案。它不仅是一台新设备,更是工作流程的加速器。通过结合超快飞秒激光精度和智能自适应加工技术,我们帮助实验室加速样品制备、减少返工,并提升对复杂器件结构的洞察力。
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FemtoChisel
的工作流程优势
多材料自适应加工能力
高通量激光搭配智能多气体处理与专用保护层设计,可在金属、高分子及先进封装结构的加工过程中有效保持器件完整性。
快速获取埋层结构
生成高质量、无碎屑的锥度校正截面,可减少甚至免除后续 FIB 精抛。
选择性背面减薄
获得如镜面般的背面表面(Ra < 0.4 µm),可用于无伪影的光学失效分析。
大面积高效去层(> 5 mm)
搭载自动终点检测,实现高速、准确的逐层剥离。
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帮助半导体行业突破传统样品制备瓶颈
Tescan 将激光加工、电子显微镜和 FIB 技术结合成一套相互配合的流程,帮助半导体行业突破传统样品制备的瓶颈。FemtoChisel 既能应用于 按照固定工艺流程运行的生产线,也能满足先进封装和研发实验室中更灵活的探索需求,可全面适配当下及未来多样化的半导体应用场景。
借助收购 FemtoInnovations 并设立激光技术事业部,Tescan 进一步加强了在激光赋能样品制备技术上的创新实力。
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关于 Tescan 集团 | ![]() | ||||||||
Tescan 集团总部位于“电镜之乡”捷克布尔诺,这里不仅是仪器主要的生产中心,负责设计、组装和测试,也是科研技术交流中心,加速全球科学家与先进实验室探索发现的进程。
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了解更多 FemtoChisel 信息,请访问官网产品页。
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