超纯水中硼和硅异常，可能是因为……

话接上回，我们说到超纯水在半导体分析检测环节的应用，尤其是水中痕量离子水平为提供准确的痕量分析结果起到了至关重要的作用。

水之善利万物而有静——人工智能篇

在使用超纯水进行半导体材料分析检测时，除了金属元素杂质之外，许多老师通常还会非常关注超纯水中硼和硅的含量，有时会发现通过超纯水机产出的超纯水的硼和硅甚至高于前端进水。当超纯水中的硼和硅浓度超出预期时，会影响实验的多个步骤（空白、配标液、器皿清洗等），导致实验结果不可信。

那么问题来了，经过了精纯化柱后为什么反而硼和硅的含量更高了呢？

离子交换树脂接近耗尽时，硼和硅是最先穿透重新释放到超纯水中，且不易发现。

专用除硼柱，确保所捕获的“硼”不会随电阻率下降而穿透。

选择特殊的除硼柱，特殊的硼处理柱可捕获硼的官能团并固定在树脂。这种官能团的结构对硼的吸附具有专属性，相比其他离子更具竞争力。即使在电阻率下降的条件下，也并未展示穿透现象。