您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着独特的设计, zui高升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小(一批至多 50 片晶圆), CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺,降低顾客研发费用。
cent rot herm 的设计在高效, 低耗上非常出色, 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。
常压工艺退火
氧化
扩散LPCVD PECVD
Zui高温度可达 11 00° C
净化间占用面积小 [1.6 m叮
售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批最高可处理 50 片晶圆
售 全自动 cassette -to-cassette 传片
centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物(SiC)或镓-氮化合物(GaN) 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体, 如研发炉和批量生产炉, 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低,所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。
特点:
高活化率
表面粗糙程度最小
温度最高达 1850°C
批量规模高达 50硅片(150mm)
加热率最高达 150 K/min
通过SiH4可实现硅“过压
centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150独立的小批量晶圆 生产设备,能实现各项热处理工艺,适用于少量生产及 研发,centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150
centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150独立的小批量晶圆 生产设备,能实现各项热处理工艺,适用于少量生产及 研发信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于 centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150独立的小批量晶圆 生产设备,能实现各项热处理工艺,适用于少量生产及 研发报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
布鲁克S2 PUMA Series Ⅱ能量色散型X射线荧光光谱仪(EDXRF)
布鲁克autoflex maX MALDI-TOF/TOF 基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪
布鲁克VERTEX V80/80v傅立叶变换红外光谱仪
布鲁克台式核磁共振波谱仪Fourier 80
布鲁克D8 Advance 达芬奇 X射线衍射仪
QC3 高分辨率X射线衍射仪
布鲁克手持式便携拉曼光谱仪-BRAVO
Beacon®单细胞光导系统
群组论坛--近红外(NIR)
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号