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BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
1、脉冲激光沉积系统
产品特点:
◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体
◆ 可集成热蒸发源或溅射源
◆ 可旋转的耐氧化基片加热台
◆ 流量计或针阀控制气体流
◆ 标准真空计
◆ 干泵与涡轮真空泵
◆ 可选配不锈钢快速进样室
◆ 可选配基片-靶材距离自动控制系统
◆ 是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的zei佳设备
2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)
产品特点
◆ 超高真空不锈钢腔体◆ 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成
◆ 独立衬底加热,可旋转
◆ 多量程气体流量控制器
◆ 标准气压计
◆ 机械、分子、冷凝真空泵可选不锈钢快速进样室
◆ 衬底和源距离可控
◆ 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
3、热化学气相沉积系统(TCVD)
◆ 高温石英管反应器设计
◆ 温度范围:室温到1100℃
◆ 多路气体控制
◆ 易于操作
◆ 可配机械泵实现低压TCVD◆ 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
◆ 液体前驱体喷头
◆ 2英寸超大温度均匀区
4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)
◆ 水冷不锈钢超高真空腔
◆ 热丝易安装、更换
◆ 4个不同量程气体控制器
◆ 衬底与热丝距离可调节
◆ 2英寸衬底加热、可旋转
◆ 制备金刚石和石墨烯
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
电弧等离子体沉积系统
3D纳米结构高速直写机
小型台式无掩膜光刻机
三维原子层沉积系统 ALD
纳米颗粒(特别是当粒径小于20 nm时)所展现出的诸多新奇光学性质,一直是令无数研究人员着迷的话题。研究人员一方面不断探索、发掘新的现象并尝试给予解释,一方面积地尝试将各种新奇的性质应用于改善人们的生活。随着纳米颗粒相关领域研究的蓬勃发展,高品质纳米颗粒的合成以及宏量制备已经成为现实。然而,随着研究需求与实际应用需求的不断提升,不论是实验抑或是生产,对纳米颗粒的定位与组装的精度和可靠性的要求也越来越高。
引言 异质催化剂的合成通常借助于传统的湿法化学法,包括浸渍法、离子交换和沉积-沉淀法等。然而,这些方法合成的催化材料往往具有非常复杂的结构和活性位点分布不均匀等问题,这些问题会显著降低催化剂的催化性能,特别是在选择性上,阻碍了科学家们在原子水平上理解催化剂的结构-活性关系。此外,在苛刻的反应条件下通过烧结或浸出造成的活性组分的损失会导致催化剂的大面积失活。因此,亟待发展一种简便的方法来调控催化剂的活性位结
Abbelight 3D大视野单分子定位系统将于11月迎来第二波大规模路演,现诚邀各位老师免费试用! 单分子定位技术(SMLM)是一种可以同时提供高的空间分辨率和定量信息的超分辨光学成像技术,借助该技术,研究人员可在纳米层次对细胞中的单个蛋白分子以及细胞器进行定位和追踪。Quantum Design中国子公司引进的法国abbelight 3D大视野单分
导 | 读 近期,瑞士IBM苏黎世研发中心的Colin博士和Swisslitho公司的Martin博士利用热扫描探针(T-SPL)纳米加工技术,配合干法蚀刻解决方案实现了相互作用微腔(两个相邻的光学微腔),并对微腔距离进行了控制,实现了两个微腔光场的相互作用。相关工作发表在Nature子刊 Scientific Report。 T-SPL纳米加工技术 热扫描探针(T-SPL)纳米加工技术是一种灰度刻蚀技术。与传统意
日本ADVANCE RIKO公司总结多种薄膜沉积技术,发布电弧等离子体沉积(APD)系统。其工作原理主要分为三步:首先在触发电上加载高电压后,电容中的电荷充到阴(靶材)上;其次真空中的阳和阴(靶材)间,电子形成了蠕缓放电,并产生放电回路,靶材被加热并形成等离子体;后通过磁场控制等离子体照射到基底上,形成薄膜或纳米颗粒。APD工作原理 电弧等离子体沉积系统利用5个高能电容器,通过改变电容器使用数量,使充电电压发生改变,从而控制脉冲能量,终达到控制薄
脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)
群组论坛--近红外(NIR)
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