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芯壹方 TALD 桌面型热原子层沉积系统
参考价：面议
品牌与制造商：芯壹方 产地：中国 型号：TALD 官方样本下载：来电或留言获取样本
数据更新时间：2026-10-20
AI Agent
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| 型号 | 品牌 | PIPES指数 |
|---|---|---|
| PRIME™系列 | Arradiance | 7.7 |
| PROMETHEUS | ForgeNano | 7.6 |
| PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版 | Picosun | 7.5 |
产品官方概述
TALD桌面型原子层沉积系统是一款紧凑型热ALD平台，适用于实验室与研发空间使用。设备支持碎片及2-6英寸晶圆，满足多种基体与工艺需求，可用于氧化物等薄膜的工艺开发。腔体体积小、前驱体利用率高，支持配方编辑、自动循环、数据记录、报警提示及安全联锁，为科研与工艺验证提供稳定、高效的沉积解决方案。
以下内容综合自芯壹方官方技术规格及公开资料信息
官方技术参数
| 产地与供应商：国产 |
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